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晶洲装备先后完成了从G2.5到G8.6及以上尺寸CF、Array、TP等工艺湿制程显影机设备的自主研发 显影机/Developer

工序数:单张基板需显影5次以上,占面板制程总工序约10%
台套数:单AMOLED 30K前段工厂需求≥12台/套

  • 显影机/Developer

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高精度稳定搬送

精密工艺控制

基板表面处理能力强

全面防污染设计

系统化解决方案



设备参数

产品杠.jpg



  适用工艺


CF、Array、TP


  适用基板尺寸


所有尺寸


  适用基板厚度


≥0.3mm


  显影类型


喷淋摇摆


  设备类型


I 型,U 型,线型,定制款

  工艺能力


高均匀性超低压喷淋

卓越的工艺可靠性,高关键线宽均匀性

消泡管理

无雾斑、无滚痕、无污染、无划痕

低运行成本



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