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从G2.5到G8.6及以上尺寸Array,OLED,Rework等各工艺类型湿制程光阻剥离机设备的自主研发 光阻剥离机/Stripper

工序数:单张基板需刻蚀10次以上,占面板制程总工序约10%
台套数:但AMOLED 30K 前段工厂需求≥10台/套

  • 光阻剥离机/Stripper

光阻剥离机(PR stripper).png



高精度搬送.png



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高精度稳定搬送

精密工艺控制

基板表面处理能力强

全面防污染设计

系统化解决方案



设备参数

产品杠.jpg



  适用工艺


Array,OLED,Rework


  适用基板尺寸


所有尺寸


  适用基板厚度


≥0.3mm


  剥膜类型


循环喷淋


  设备类型


I 型,U 型,线型,定制款

  工艺能力


无 PR、药液、水渍残留

无腐蚀

静电防护

无 Mura、无滚痕、无污染、无划痕

低运行成本



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