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晶洲装备从G2.5到G6及以上尺寸掩膜版清洗机设备的自主研发研发 掩膜版清洗机/Mask Cleaner

工序数:蒸镀前 Mask 准备过程每张 Mask 需要经历制作、清洗、检查的过程
台套数:单 AMOLED 30K 工厂需求≥6台/套

  • 掩膜版清洗机/Mask Cleaner




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高精度稳定搬送

精密工艺控制

基板表面处理能力强

全面防污染设计

系统化解决方案




设备参数

产品杠.jpg



 

  清洗质量



  无mura、水痕、锈斑、脏污、无损伤


  平坦度


  百微米级


  Total Pitch变化


  微米级


  Defect数量


  10ea


  搬送重复精度


  毫米级

  温度稳定性


  ±1°(60°以内)


  超声波
  

  4波段复频超声波,频率可自由切换

  球面波超声技术,无死角



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