用于玻璃基板表面高精度涂覆光刻胶，具备匀胶、预烘、冷却等多功能单元，涂布均匀性好，厚度控制精准，支持大尺寸基板处理，适用于高分辨率光刻和微纳结构制作。
设备参数
名称 | 参数 |
| 技术指标 | 涂布模头高度定位精度：1μm 直线度精度：±2μm 气浮精度：±2μm（涂胶线） |
| 涂布膜层 | 膜厚均匀性：3% 膜厚：1.2/1.5/1.8/2.2μm可调 |
| 涂布模头 | 超硬合金（选配） 狭缝模头唇口直线度：3μm/m |
| 涂胶泵 | Koganei小金井 |
| 数据可视化 | 涂胶压力曲线自动收取，主控电脑显示 |
显示
光伏
半导体