勇立潮头敢为先—晶洲装备再次荣获首台套重大装备认定

关键词:,首台套,掩膜版清洗机,湿制程装备,湿制程,晶洲装备,


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2022年11月18日
2022年江苏省首台(套)重大装备拟认定名单公示
经过公示
晶洲装备掩膜版清洗装备成功获得首台(套)认定

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2022年江苏省首台(套)重大装备拟认定名单.jpg
       掩膜版清洗装备(Mask Cleaner)用于OLED制程清洗蒸镀设备内核心部件——Mask,AMOLED采用Mask蒸镀方式实现,而Mask精密度极高,极其脆弱,价格也极其昂贵,Mask洗净后的洗净效果与表面物理形貌将直接影响良率,也是降低成本的关键环节。Mask Cleaner代表AMOLED物理清洗的最高要求,且作为蒸镀机必匹配之核心设备,售价极其高昂。而Mask Cleaner生产厂商都是日韩厂商,垄断形式明显。

       针对这一情况,晶洲装备通过近三年的不断研发与实验数据收集,从G2.5Mask Cleaner原型机的设计制造到G4.5Mask Cleaner量产并获得性能数据,一步一个脚印,2020年4月,晶洲装备(KZONE)首台国产G6 掩膜版清洗设备(Mask Cleaner)成功交付装机,这是首台由中国企业完全自主研发生产的G6 掩膜版清洗设备(Mask Cleaner)设备,拥有无损电解技术、超高效真空干燥技术、颗粒污染防治及隔离技术、高精密药液浓度监控与添加技术、高精度稳定搬送技术、防爆技术等多项自主知识产权,打破了国外厂商的垄断,极大的降低了面板厂商的设备成本,进一步推动了装备国产化的进程。

晶洲装备Mask Cleaner采用多波段复频超声波,频率可自由切换,球面超声波技术,清洗无死角。清洗质量无mura、水痕、锈斑、脏污,无损伤,UV照射无亮点,平坦度百微米内,微米级Total Pitch变化,颗粒数量少,搬送重复精度高,温度稳定,设备内部洁净度Class 100,完全符合客户端端对于设备硬件及工艺规格要求。

       苏州晶洲装备科技有限公司自2011年成立以来,围绕湿制程核心技术,在平板显示领域,从清洗、显影、刻蚀到剥离、蒸镀前清洗,提供了切实有效的解决方案,以掩膜版清洗机为代表,研发出了清洗机、显影机、湿法刻蚀机、光阻剥离机、掩模版清洗机等一系列湿制程主工艺设备,填补国内空白的同时,打破了国外进口设备的垄断局面,成果硕硕。

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晶洲装备在湿制程设备领域不断进取突破,不但获得了来自客户的认可,并得到政府和社会的肯定,先后多次荣获清洗、刻蚀及剥离装备的首台(套)重大装备认定。此次掩膜版清洗装备再次荣获江苏省首台(套)重大装备认定,体现了晶洲装备努力奋进,填补国内空白,推进湿制程装备国产化进程,稳定平板显示产业供应链的决心。


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