三大核心成果展示
01 国产涂胶显影整线装备
新型显示PHOTO工序的核心关键装备,其工艺精度与稳定性直接决定显示面板的图形分辨率、线宽均匀性与最终良率。晶洲涂胶显影线聚焦非接触气浮传输、精度控制、洁净管控、工艺稳定,实现各单元创新亮点相互支撑、高效联动,构建起全流程闭环创新体系。
02 高端消费电子玻璃刻蚀设备
在过去十年里,高端玻璃的应用边界正被快速拓宽——"更轻薄、更可靠、结构更复杂" 的玻璃形态,正在给湿法蚀刻工艺带来同一个命题。面向折叠屏、柔性显示等高端消费电子市场,晶洲装备推出高端玻璃刻蚀设备,涵盖玻璃边缘刻蚀(Edge Etching)、整面减薄刻蚀(Bulk Etching)等应用场景,对超薄玻璃进行精密化学刻蚀加工,实现玻璃边缘圆弧化、应力消除及整面薄化。
03 TGV中试开放平台
TGV(Through Glass Via,玻璃基通孔)技术被业界视为下一代先进封装和新型显示的关键路径。晶洲装备此次带来的TGV中试开放平台,覆盖微通孔制备到金属化的全流程工艺验证能力,加速从实验室到量产线的转化闭环。
展会信息
时 间 8月26-28日 | 地 点 上海新国际博览中心 |
展 位 N5馆 A23 | 展 会 DIC EXPO |
更多产品细节与技术方案,欢迎现场交流。
8月26-28日上海新国际博览中心 N5馆A23晶洲装备,期待与您现场交流