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邀请函 | 晶洲装备携三大核心成果亮相DIC显示展 发布时间:2026-08-17

三大核心成果展示

01 国产涂胶显影整线装备

新型显示PHOTO工序的核心关键装备,其工艺精度与稳定性直接决定显示面板的图形分辨率、线宽均匀性与最终良率。晶洲涂胶显影线聚焦非接触气浮传输、精度控制、洁净管控、工艺稳定,实现各单元创新亮点相互支撑、高效联动,构建起全流程闭环创新体系。

非接触传送,不产尘 ESD高效控制控 生产节拍快 超低变形量 高精度定位

02 高端消费电子玻璃刻蚀设备

在过去十年里,高端玻璃的应用边界正被快速拓宽——"更轻薄、更可靠、结构更复杂" 的玻璃形态,正在给湿法蚀刻工艺带来同一个命题。面向折叠屏、柔性显示等高端消费电子市场,晶洲装备推出高端玻璃刻蚀设备,涵盖玻璃边缘刻蚀(Edge Etching)、整面减薄刻蚀(Bulk Etching)等应用场景,对超薄玻璃进行精密化学刻蚀加工,实现玻璃边缘圆弧化、应力消除及整面薄化。

超薄玻璃整面减薄 玻璃边缘圆弧化刻蚀 TGV 玻璃微通孔刻蚀 

03 TGV中试开放平台

TGV(Through Glass Via,玻璃基通孔)技术被业界视为下一代先进封装和新型显示的关键路径。晶洲装备此次带来的TGV中试开放平台,覆盖微通孔制备到金属化的全流程工艺验证能力,加速从实验室到量产线的转化闭环。

TGV技术 中试验证 设备定制  

展会信息

时 间

8月26-28日

地 点

上海新国际博览中心

展 位

N5馆 A23

展 会

DIC EXPO

更多产品细节与技术方案,欢迎现场交流。

8月26-28日上海新国际博览中心 N5馆A23晶洲装备,期待与您现场交流

关 于 晶 洲
苏州晶洲装备科技有限公司 2011 年成立于江苏常熟,是一家专注于湿制程与图形化工艺技术及应用装备开发的高新技术企业。致力于为 新型显示、光伏及半导体行业 提供 高精密清洗、涂布、显影、刻蚀、光阻剥离、电化学沉积 等湿制程与图形化设备。同时,公司提供 废液在线回用系统、智能集成与数据分析 等创新解决方案,助力客户实现生产过程的绿色化与智能化升级。