7月26日，由中国电子材料行业协会、中国光学光电子行业协会液晶分会主办的“2022•中国显示行业供应链技术和市场对接交流会”暨“2021年度中国新型显示产业链贡献奖”发布大会在江西九江隆重举行。新型显示产业链上下游企业与行业领导、专家同聚一堂，总结新型显示产业链建设的成功经验 ,并对过去一年做出突出贡献的企业和组织进行了表彰。
晶洲装备为新型显示行业供应的大世代新型显示湿法刻蚀装备推动了平板显示行业的关键性装备国产化，受到了组委会专家领导的一致肯定，被中国电子材料行业协会、中国光学光电子行业协会液晶分会授予“2021年度中国新型显示产业链贡献奖-卓越贡献奖”！
颁奖过后，晶洲装备高级项目经理宋金林在会上发表了《“晶”雕细刻，引领平板显示前制程湿法装备》专题报告，向与会嘉宾介绍了晶洲装备本次获奖的大世代新型显示湿法刻蚀装备以及近年来在显示装备行业的发展成果。
大世代新型显示湿法刻蚀装备由晶洲装备自主研发，主要应用于平板显示制程的阵列(Array)段，其原理是利用化学方法对经过曝光和显影后的基板表面金属膜层进行均匀刻蚀，进而行程光刻定义的电路图，是图形化工艺的关键制程，一向有进口设备商垄断，国内厂商少有涉及。
自2012年以来，公司历时十余年持续攻关平板显示湿法装备，陆续突破蚀刻、剥离、显影等一系列关键制程装备。批量交付的量产装备尺寸涵盖G2.5~G8.6，并储备了G10.5装备的对应能力，交付产品广泛应用于TFT-LCD、AMOLED、Mini/Micro等新型显示产线，其中，清洗、刻蚀、剥离等制程装备先后荣获首台(套)重大装备认定。
在结构设计维度建立了G2.5~G10.5高精度稳定搬送系统及破片防止成套方案；面向客户关注的产品应用维度具备颗粒污染防治及隔离技术、全系统静电消除解决方案、Mura(不均)防止及应用特别理解，可提供全面的工艺及装备综合解决方案。
近年来晶洲在新型显示领域产品突破主要包含：Mini/Micro厚铜成膜、HAA图形化、LTPO配套装备、COE技术商业化等。晶洲装备将持续深耕显示行业，以“具备国际影响力的中国装备制造企业”为目标，用“敢为人先、敢于突破”的创新精神和卓越的品质与服务，助力我国新型显示产业装备国产化的进一步发展。
