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掩模版清洗机设备/Mask Cleaner

掩模版清洗机设备/Mask Cleaner

晶洲装备从G2.5到G6及以上尺寸掩模版清洗机设备的自主研发研发

清洗质量:INC无mura、水痕、锈斑、脏污,无损伤

平坦度:百微米级

Total Pitch变化:微米级

Defect数量:10ea

搬送重复精度:毫米级

温度稳定性:±1°(60°以内)

超声波:4波段复频超声波,频率可自由切换

             球面波超声技术,无死角

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